氫氟酸腐蝕二氧化硅反應方程式

氫氟酸對硅的化合物有強腐蝕性。應在密閉的塑料瓶內保存。氫氟酸用氟氣（F₂）溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗鑄件上的殘砂、控制發酵、電拋光和清洗腐蝕半導體硅片（與HNO3的混酸）。

圖（1）高純度二氧化硅

因為氫原子和氟原子間結合的能力相對較強，使得氫氟酸在水中不能完全電離。氫氟酸能夠溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃（二氧化硅），生成氣態的四氟化硅 反應方程式如下：

SiO₂(s) + 4 HF(aq) → SiF4↑ + 2 H₂O(l)

正因如此，它必須儲存在塑料（理論上講，放在聚四氟乙烯做成的容器中會更好）、蠟質制或鉛制的容器中。氫氟酸沒有還原性。如果要長期儲存，不僅需要一個密封容器，而且容器中應盡可能將空氣排盡。